因為專業(yè)
所以領(lǐng)先
氮化鋁(AlN)陶瓷具備優(yōu)異的綜合性能,是近年來受到廣泛關(guān)注的新一代先進(jìn)陶瓷,具有高熱導(dǎo)率、低介電常數(shù)、低介電損耗、優(yōu)良的電絕緣性,與硅相匹配的熱膨脹系數(shù)及無毒性等優(yōu)點(diǎn),使其成為高密度、大功率和高速集成電路基板和封裝的理想材料 。
氮化鋁共燒基板制造工藝是一個多步驟的復(fù)雜過程。其中流延法是電子工業(yè)用氮化鋁陶瓷基板的主要成型工藝。在這個工藝過程中,涉及到從原材料的處理到最終產(chǎn)品成型的多個環(huán)節(jié)。例如,要對氮化鋁粉末進(jìn)行處理,并且要根據(jù)不同的燒結(jié)工藝需求,準(zhǔn)備合適的助劑、添加劑等材料。
在整個制造工藝中,燒結(jié)是一個關(guān)鍵環(huán)節(jié)。氮化鋁自擴(kuò)散系數(shù)小,燒結(jié)非常困難,常用的燒結(jié)工藝包括熱壓燒結(jié)、無壓燒結(jié)、微波燒結(jié)、放電等離子燒結(jié)和自蔓延燒結(jié)等。不同的燒結(jié)工藝有各自的特點(diǎn),例如熱壓燒結(jié)即在一定壓力下燒結(jié)陶瓷,可以使加熱燒結(jié)和加壓成型同時進(jìn)行;無壓燒結(jié)(常壓燒結(jié)),其氮化鋁陶瓷的溫度范圍一般為1600 - 2000℃,適當(dāng)升高燒結(jié)溫度和延長保溫時間可以提高氮化鋁陶瓷的致密度;微波燒結(jié)是一種快速燒結(jié)法,利用微波與介質(zhì)的相互作用產(chǎn)生介電損耗而使坯體整體加熱;放電等離子燒結(jié)融合等離子活化、熱壓、電阻加熱等技術(shù),具有燒結(jié)速度快,晶粒尺寸均勻等特點(diǎn);自蔓延燒結(jié)是在超高壓氮?dú)庀吕米月痈邷睾铣煞磻?yīng)直接制備AlN陶瓷致密材料,但由于高溫燃燒反應(yīng)下原料中的Al易熔融而阻礙氮?dú)庀蛎鲀?nèi)部滲透,難以得到致密度高的AlN陶瓷 。
另外,對于氮化鋁多層高溫共燒陶瓷(HTCC)基板,在制作過程中需要使用耐高溫的鎢(W)漿料,而鎢本身不具有可焊性和可鍵合性,因此,必須對HTCC表面的鎢導(dǎo)體進(jìn)行表面改性,化學(xué)鍍鎳鈀金是最理想的方案,這樣可以使其具有可焊性和可鍵合性,便于電子裝配 。
在氮化鋁漿料制備中,通常要加入有機(jī)混合溶劑如分散劑及粘結(jié)劑、塑性劑等以獲得易于流延成型的漿料特性。除此之外,一般還會加入Y2O3用作在常壓燒結(jié)條件下起著燒結(jié)助劑的作用。漿料的粘度對基板的性能有重要的影響,而影響漿料粘度的因素有研磨時間、有機(jī)混合溶劑摻量、分散劑摻量及粘結(jié)劑、塑性劑等。所以漿料的配方選擇、工藝控制對陶瓷基板的性能影響十分顯著 。
流延成型生產(chǎn)效率高,易于實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)連續(xù)化和自動化,降低成本,實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。生產(chǎn)的基板厚度可薄至10μm以下,厚可至1mm以上。與其他成型工藝相比,流延成型具有很多優(yōu)點(diǎn),例如設(shè)備工藝簡單,可連續(xù)生產(chǎn);可制備單相或復(fù)相陶瓷薄片材料;產(chǎn)品的缺陷小,性能均一,生產(chǎn)效率高,可連續(xù)操作;均可大、小批量生產(chǎn),適于工業(yè)生產(chǎn);非常適用于大型薄板的陶瓷部件的制備,這是流延成型最大的特點(diǎn),是壓制或者擠壓成型工藝很難實(shí)現(xiàn)的 。
經(jīng)流延法制得的基片素坯,由于內(nèi)含大量的有機(jī)物,其內(nèi)部的孔隙率較大,強(qiáng)度較低。若直接進(jìn)行燒結(jié),會導(dǎo)致基板產(chǎn)生較強(qiáng)的收縮,基板翹曲,而且在燒結(jié)時還會導(dǎo)致坯片的相互粘結(jié),影響基板的成品率和熱導(dǎo)率。為了防止以上缺陷的產(chǎn)生,在1100℃的氮?dú)鈿夥諣t中預(yù)燒后在進(jìn)行燒結(jié),可以提高素坯強(qiáng)度,減少孔隙率,得到平整度高、性能良好的AlN基板材料 。
在經(jīng)排膠之后,氮化鋁基板將進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)。高導(dǎo)熱氮化鋁基片的燒結(jié)工藝重點(diǎn)包括燒結(jié)方式、燒結(jié)助劑的添加、燒結(jié)氣氛的控制等。由于AlN屬于共價化合物,自擴(kuò)散系數(shù)小,燒結(jié)致密化非常困難,通常需要使用稀土金屬氧化物和堿土金屬氧化物作為燒結(jié)助劑來促進(jìn)燒結(jié),但仍需要1800℃以上的燒結(jié)溫度??梢酝ㄟ^以下三種途徑獲得致密的高性能氮化鋁陶瓷:使用超細(xì)粉;熱壓或等靜壓;引入燒結(jié)助劑。如前面提到的,AlN基片較常用的燒結(jié)工藝有熱壓燒結(jié)、無壓燒結(jié)、微波燒結(jié)、放電等離子燒結(jié)和自蔓延燒結(jié)等,其中熱壓燒結(jié)是目前制備高熱導(dǎo)率致密化AlN陶瓷的主要工藝 。
對于氮化鋁多層高溫共燒陶瓷(HTCC)基板,在制作過程中使用了耐高溫但不具有可焊性和可鍵合性的鎢(W)漿料,所以需要對HTCC表面的鎢導(dǎo)體進(jìn)行表面改性?;瘜W(xué)鍍鎳鈀金是最理想的方案,通過這種方式使其具有可焊性和可鍵合性,便于電子裝配 。
氮化鋁陶瓷自擴(kuò)散系數(shù)小,燒結(jié)致密化非常困難,所以燒結(jié)助劑的選擇至關(guān)重要。通常會使用稀土金屬氧化物和堿土金屬氧化物作為燒結(jié)助劑,例如Y2O3等。這些燒結(jié)助劑能夠在燒結(jié)過程中起到促進(jìn)物質(zhì)擴(kuò)散、降低燒結(jié)溫度、提高燒結(jié)體致密度等作用。合適的燒結(jié)助劑及其添加量需要根據(jù)具體的生產(chǎn)要求和工藝條件進(jìn)行優(yōu)化選擇。如果燒結(jié)助劑的選擇不當(dāng)或者添加量不合適,可能會導(dǎo)致氮化鋁陶瓷的性能下降,例如熱導(dǎo)率降低、介電性能變差等 。
溫度控制 不同的燒結(jié)工藝需要精確的溫度控制。如無壓燒結(jié)的溫度范圍一般在1600 - 2000℃,在這個范圍內(nèi)適當(dāng)升高溫度和延長保溫時間可以提高氮化鋁陶瓷的致密度。而熱壓燒結(jié)在一定壓力下進(jìn)行,溫度等條件也需要嚴(yán)格控制,例如以25MPa高壓,1700℃下燒結(jié)4h便制得了密度為3.26g/cm3、熱導(dǎo)率為200W/ (m.K)的AlN陶瓷燒結(jié)體,AlN晶格氧含量為0.49wt%,比1800℃下燒結(jié)8h得到的AlN燒結(jié)體的晶格氧含量(1.25wt%)低了60%多,熱導(dǎo)率得以提高 。
壓力控制(針對熱壓燒結(jié)等工藝) 熱壓燒結(jié)需要在一定壓力下進(jìn)行,壓力的大小會影響燒結(jié)體的致密度和性能。合適的壓力能夠使加熱燒結(jié)和加壓成型同時進(jìn)行,促進(jìn)陶瓷致密化。壓力控制不當(dāng)可能會導(dǎo)致燒結(jié)體出現(xiàn)缺陷,如內(nèi)部應(yīng)力不均勻、密度不均勻等問題。
氣氛控制 燒結(jié)氣氛也會影響氮化鋁陶瓷的性能。在燒結(jié)過程中,氮?dú)鈿夥帐浅R姷倪x擇。合適的氣氛能夠減少氮化鋁中的氧含量,提高其熱導(dǎo)率等性能。例如在排膠過程中,選擇氮?dú)鈿夥諣t進(jìn)行預(yù)燒,可以減少基板的缺陷,提高成品率和性能 。
原料的選擇與配比 氮化鋁粉末的質(zhì)量、純度等因素會影響漿料的性能,進(jìn)而影響最終基板的性能。同時,燒結(jié)助劑、分散劑、粘結(jié)劑、塑性劑等添加劑的選擇和配比也非常關(guān)鍵。例如,在球磨制漿過程中,Y2O3作為燒結(jié)助劑的添加量,以及分散劑、粘結(jié)劑、塑性劑等有機(jī)混合溶劑的摻量都會影響漿料的粘度,而漿料粘度對基板性能有重要影響。
混合工藝 在將氮化鋁粉末與各種添加劑混合制備漿料時,混合的均勻性是一個關(guān)鍵因素。混合不均勻可能會導(dǎo)致局部性能差異,影響基板的質(zhì)量?;旌瞎に囆枰紤]混合設(shè)備的類型、混合時間、混合速度等因素,以確保漿料的均勻性。
該成果采用流延成膜、厚膜印制,生瓷疊片,常壓燒結(jié)等配套先進(jìn)工藝,在國內(nèi)首次比較系統(tǒng)地進(jìn)行了氮化鋁 - 鎢材料多層高溫共燒陶瓷的各項基礎(chǔ)實(shí)驗工作,具有簡化工藝、產(chǎn)品成型隨著力好、成本低等特點(diǎn) 。在這個案例中,流延成膜工藝能夠高效地制備出適合后續(xù)工藝的氮化鋁生瓷片,厚膜印制可以將設(shè)計好的電路精確地制作到生瓷片上,生瓷疊片則是實(shí)現(xiàn)多層結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟,常壓燒結(jié)在合適的溫度等條件下保證了產(chǎn)品的最終性能。
Innovacera公司的氮化鋁 (AlN) 陶瓷基板可用于各種金屬化工藝,如薄膜、厚膜、直接粘合銅、活性金屬釬焊和直接鍍銅。其內(nèi)部采用先進(jìn)加工工藝,并且提供多種表面處理方式,如AF = 燒成狀態(tài)、LBS = 雙面研磨(25u” Ra)、PBS = 雙面拋光(2u” Ra)、P1S = 單面拋光(2u” Ra)/第二面研磨,還提供改進(jìn)的公差、表面處理和替代尺寸。此外,還提供標(biāo)準(zhǔn)和定制基板,標(biāo)準(zhǔn)方塊有25.4mm、50.8mm、101.6mm和114.3mm(1?、2?、4?、4.5?),標(biāo)準(zhǔn)圓形有φ101.6mm、φ152.4mm、φ203.2mm、φ304.8mm和φ356mm (4?、6?、8?、12?、14?) 。這表明該公司在氮化鋁基板制造工藝上不僅注重基板的基本性能,還在金屬化工藝、表面處理、產(chǎn)品尺寸規(guī)格等方面進(jìn)行了優(yōu)化和創(chuàng)新,以滿足不同客戶的需求。
調(diào)整燒結(jié)助劑種類和含量 通過研究不同燒結(jié)助劑對氮化鋁陶瓷性能的影響,調(diào)整燒結(jié)助劑的種類和含量。例如,可以研究稀土氧化物 (Y_2O3)、堿土金屬氧化物 (CaO)及其復(fù)合添加途徑對高導(dǎo)熱氮化鋁陶瓷性能的影響,找到最佳的燒結(jié)助劑組合和添加量,以提高氮化鋁陶瓷的熱導(dǎo)率、降低雜質(zhì)含量、減少晶界相的含量等 。
優(yōu)化粉末原料特性 改善氮化鋁粉末的純度、粒度分布等特性。使用純度更高、粒度分布更均勻的氮化鋁粉末,可以提高基板的性能。例如,采用更先進(jìn)的氮化鋁粉末制備方法,如化學(xué)氣相沉積等方法制備的粉末可能具有更好的性能,可以提高基板的質(zhì)量。
優(yōu)化排膠溫度曲線 研究不同溫度下有機(jī)物的分解情況,制定更合理的排膠溫度曲線。例如,在1100℃的氮?dú)鈿夥諣t中預(yù)燒是一種常見的排膠方式,但可以進(jìn)一步研究是否可以通過調(diào)整溫度上升的速率、在不同階段設(shè)置不同的溫度等方式來更有效地去除有機(jī)物,減少基板的缺陷。
采用新型排膠設(shè)備或技術(shù) 探索使用新型的排膠設(shè)備,如具有更精確溫度控制、氣氛控制的設(shè)備,或者采用新的排膠技術(shù),如微波輔助排膠等技術(shù),提高排膠的效率和效果,從而提高基板的質(zhì)量。
優(yōu)化導(dǎo)體漿料性能 對于多層共燒氮化鋁陶瓷中使用的導(dǎo)體漿料(如鎢漿料),研究如何提高其性能。例如,改善其流動性、附著力等性能,以便在印刷電路等過程中能夠更好地實(shí)現(xiàn)設(shè)計要求,提高電路的精度和可靠性。
改進(jìn)印刷、疊片層壓工藝 在印刷電路時,采用更先進(jìn)的印刷技術(shù),提高印刷的精度和均勻性。在疊片層壓過程中,優(yōu)化壓力、溫度等工藝參數(shù),保證層間的結(jié)合質(zhì)量,減少層間缺陷,提高多層共燒基板的整體性能。
氮化鋁陶瓷基板清洗的水基清洗劑
SP300是一種專用于氧化鋁、氮化鋁陶瓷基板清洗的水基清洗劑,配合超聲波清洗工藝,能有效去除陶瓷基板表面的激光鉆孔殘留、灰塵、油污等污垢,使陶瓷基板后續(xù)的金屬化具有良好的結(jié)合力。