水基清洗工藝設(shè)計(jì)與清洗流程注意事項(xiàng)
水基清洗劑清洗能力強(qiáng)、清洗過程中損耗小,與傳統(tǒng)的有機(jī)溶劑清洗劑相比,水基清洗劑是不易燃易爆,具有環(huán)保、安全、無有害氣體、清洗能力強(qiáng)、高效經(jīng)濟(jì)的優(yōu)點(diǎn),是當(dāng)今電子制程主流清洗工藝之一。因?yàn)樗逑磩┯行С煞葑杂啥却?,可由產(chǎn)品方特殊要求而制定水基清洗劑配方,解決了很多有機(jī)溶劑清洗劑無法解決的難題,清洗范圍廣、適用能力強(qiáng),近年來水基清洗劑在各領(lǐng)域都得到了廣泛應(yīng)用。今天分享一下關(guān)于水基清洗工藝設(shè)計(jì)與清洗注意事項(xiàng)。
水基清洗工藝設(shè)計(jì)與評估
為實(shí)現(xiàn)一個(gè)高良率的清洗工藝,許多因素影響著清洗工藝窗口:基板,污染物,可用的清洗技術(shù),清洗設(shè)備,和環(huán)境因素。從清洗角度,清洗力主要包含清洗劑化學(xué)力及機(jī)械力,即所用設(shè)備工藝方式、參數(shù)等組合。
關(guān)于清洗劑的選擇標(biāo)準(zhǔn)通常包括:清洗設(shè)備,制程需求,材料兼容性,環(huán)境,成本,溶劑槽壽命,氣味以及技術(shù)支持。以下幾點(diǎn)可供水基清洗工藝設(shè)計(jì)參考:
A、水基清洗劑去除污染物的效果如何?
B、在制程中,需要多高的清洗濃度來清除助焊劑殘留物?
C、在制程中,需要多高的清洗溫度來清除助焊劑殘留物?
D、清洗劑的濃度水平是多少?(推薦的濃度范圍)
E、可能的助焊劑污染物負(fù)載量是多少?
F、清洗劑起泡嗎?
G、污染物負(fù)載量對材料的影響是什么?(清洗劑材料及器件材料)
H、材料的兼容性如何?如: 金屬的的合金- 層壓板- 塑料- 合成橡膠- 涂料- 元件- 零件標(biāo)識,標(biāo)簽以及墨水等
水基清洗工藝清洗流程與注意事項(xiàng)
水基清洗工藝分為三大步:第一步清洗,可以1槽或多槽;第二步漂洗,可以1槽或多槽;第三步:干燥,可以在線或離線干燥。
在清洗過程中,因清洗對象的結(jié)構(gòu)特性,清洗工序中有單槽清洗和多槽清洗兩種。多槽清洗分工相對精細(xì),能達(dá)到更好的清洗效果。清洗溫度建議控制在 45~60℃。清洗溫度越高,清洗劑的清洗力會(huì)越強(qiáng),但溫度過高會(huì)對清洗工件產(chǎn)生負(fù)面影響。應(yīng)根據(jù)清洗件的實(shí)際情況選取最佳溫度。
對于水基清洗工藝,漂洗工序必不可少,而且多槽漂洗更能保障清洗件的高品質(zhì)要求。一般采用去離子水漂洗,漂洗溫度控制在 45~60℃。
漂洗完成后先對清洗組裝件風(fēng)切干燥,然后采用熱風(fēng)烘干的方式進(jìn)行徹底干燥,烘干溫度應(yīng)控制在80~120℃,時(shí)間建議不少于 20min,干燥時(shí)間可根據(jù)組裝件的結(jié)構(gòu)特性及熱風(fēng)溫度進(jìn)行調(diào)整。
清洗完成后對干凈度的檢測,可通過目測、顯微鏡、達(dá)因筆等進(jìn)行檢測判斷。通過以上清洗工藝清洗后綜合良率可以的到有效保障。
上一篇:使用半水基清洗劑清洗電子產(chǎn)品的優(yōu)缺點(diǎn)介紹
下一篇:PCBA電路板清洗工藝常見問題與注意事項(xiàng)
【閱讀提示】
以上為本公司一些經(jīng)驗(yàn)的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時(shí)俱進(jìn),熟悉各種生產(chǎn)復(fù)雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。
【免責(zé)聲明】
1. 以上文章內(nèi)容僅供讀者參閱,具體操作應(yīng)咨詢技術(shù)工程師等;
2. 內(nèi)容為作者個(gè)人觀點(diǎn), 并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),本網(wǎng)站只提供參考并不構(gòu)成投資及應(yīng)用建議。本網(wǎng)站上部分文章為轉(zhuǎn)載,并不用于商業(yè)目的,如有涉及侵權(quán)等,請及時(shí)告知我們,我們會(huì)盡快處理;
3. 除了“轉(zhuǎn)載”之文章,本網(wǎng)站所刊原創(chuàng)內(nèi)容之著作權(quán)屬于合明科技網(wǎng)站所有,未經(jīng)本站之同意或授權(quán),任何人不得以任何形式重制、轉(zhuǎn)載、散布、引用、變更、播送或出版該內(nèi)容之全部或局部,亦不得有其他任何違反本站著作權(quán)之行為?!稗D(zhuǎn)載”的文章若要轉(zhuǎn)載,請先取得原文出處和作者的同意授權(quán);
4. 本網(wǎng)站擁有對此聲明的最終解釋權(quán)。